半导体芯片加工废水处理案例|半导体芯片加工废水处理方法
业务的背景
该第三产业园规划积聚了十余家半导关联行业,设计的日加工解决程度5000吨,需要加工解决来源于多种行业的融合焦化废水工作方法。会因为各行业研发工艺设计差距大,焦化废水工作方法成分表错综复杂多样,加工解决难度很大较高。
焦化废水物质及因素
生活污水重要包扩四种类:高溶液溶度充分生活污水(光刻胶、显影液液等)、含氟生活污水(刻蚀程序)和碱酸生活污水(除污程序)。非常规的成分包扩异丙醇、四甲基氢腐蚀铵等难降解塑料充分物,与氟化物、氯离子等三聚氰胺树脂空气排放物。生活污水COD浮动大(500-3000mg/L),氟化物溶液溶度100-500mg/L,氯离子50-150mg/L。
处里生产工艺步骤
按照"划分回收+分质补救+汇聚纵深补救"的企业创新模式英文:
品牌内外进行分类预操作:含氟工业废水直接征集并预操作
科技园区FDA监督管理局几大类推送操作系统
合理调准池均衡性水的质量
两极混凝土沉垫避开飘浮物和胶体溶液
高质量怪物反响器(HBR)外理有机质环保问题物
什么是臭氧催化剂的作用氧化反应生物降解难分解掉巧妙物
反融入软件对其进行脱盐除理
红外光谱线清洁提高认识溢水安全保障
特备放置了上线监测器平台和自己投药平台,对付地表水波动性。
从而效率
整体运营五年期来,处里视觉效果比较稳定可靠的。冒水COD<30mg/L,氟化物<3mg/L,化学需氧量<5mg/L,总氮<15mg/L,做到水资源Ⅳ类的标准,区域工业废水处理于产业园环卫绿化及空气凉水塔保湿补水,工业废水处理率超越30%。年变少刚采水应用约70万吨,为产业园工厂节省成本水电费百余万美金。