某半导体设备研制企业的因晶圆洁净工步制造含氨废液，出水量200吨/天。废液中除高锰酸盐指数外还带有氟化物和微量分析高价属，整理强度大。本市排污条件必须高锰酸盐指数＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 焦化废水组分及来原 晶圆除污废渣（重要源头）：含氯离子200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀步骤废污水：含少量铜、镍等高价属，pH值价格波动大 CMP打磨废液：含硅粒子及挥发酚 外理工艺步骤流程步骤流程 主要采用"化学反应析出+膜分开+折点氯化"组成新工艺： 预治理 ：污泥脱水CaCl2除氟，把握pH在7.5-8. 反渗透膜控制系统 ：去掉0.01μm之内颗粒肥料物 反参透浓缩提炼 ：将挥发酚精浓至1000mg/L以上的 折点氯化 ：准确度掌握氯加药系统量，将化学需氧量转化率为氦气 阴离子互相交换 ：保障措施血本属标准 决定结果 高锰酸盐指数可靠＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 巨资属含氧量不高于在线检测限 水使用率达75% 飞灰有量减掉40%