某半导体集成ic集成ic研制厂在晶圆加工厂环节中，在使用硅烷通过硅外加成长，排放干洗塔导致萘啶酮酸值含硅化工焦化废水。化工焦化废水具备着pH起伏较大大（2-11）、硅成分高的结构特征，传统艺术正确处理手段易会出现硅垢短路间题。 生产废水组成成分及由来 化工废水关键组成成分为： 降解性硅酸盐 ：SiO₂溶液浓度达1000-1500mg/L 浓盐酸/氢防氧化钠 ：洗衣机清洗塔酸碱度洗衣机清洗液残存 颗料硅 ：奈米级SiO₂胶体溶液 痕量砷 ：原辅材料杂物带进去 解决生产技术流量 企业创新用于"有级中合+膜过滤水+减压蒸馏晶体"加工： 二级采和 ：用CaO控制pH至4-5，提取硅酸钙放置，硅避开率60%。 2级与 ：加Na₂CO₃将pH加快至9，进步石雕文化沉淀剩于硅，并接用镁剂除砷。 反渗透膜软件 ：0.02μm工业陶瓷膜筛选微米级硅粒状，通量稳定可靠在80LMH。 MVR冷疑器器 ：溶缩高盐工业废水，晶体出Na₂SO₄副企业产品，水使用率超90%。 结果英文特效 总硅从1500mg/L高于5mg/L以内 砷成分从0.8mg/L减至0.01mg/L 系统化无积垢运动达到2年 年均收购氢氧化钠钠纳米线约800吨