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半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例

大型项目情况 该工业企业专科生产加工半导体器件用高纯氟化氢和六氟化钨,工业废水氟氨水浓度特别高且材质非常复杂。本身整理工学院艺成果不比较稳定,氟化物减排经常偏高。产品投资项目2200万元构建也可以整理设施管理,设计的概念整理的能力500吨/天。 废水处理组成成分及因素 废液大部分源自生产加工设施清晰和工业废气清洗: 氟铝离子浓度值:1500-3500mg/L 含氢氧化钠根阳离子:2000-5000mg/L pH值:1- 含少量钨、钼等金属材质化学元素 清理的工艺程序流程 涉及高氨水浓度作用,进行"结合+多级别石雕文化沉淀+膜整理"生产工艺: 废水处理处理类型整理池:类型类型整理有所差异有机废气浓度废水处理处理 采和现象池:分阶段中加药氢硫化钠和氢硫化钙,设定最中pH至7.5-8. 水解酸化池不起作用池:污泥脱水PAC和PAM明显增强沉定效用 斜管沉淀物池:高效益固液转移 多媒质筛选器:避开狗瘟颗粒剂 反渗软件:程度脱盐和除氟 工业废水沉淀烘干系统化:抽滤烘干后工业废水土石方工程专门代理 再线污染监测系统软件:实时的监测氟亚铁离子溶液浓度和pH值 结果的效果 正确处理系统化工作的数据: 渗水氟铝离子月均浓度值:2800mg/L 冒水氟化合物氨水浓度:3.2mg/L(平均值) 氟除去率:99.9%以下 水使用率:符合65% 设计定时化层度高,保证 废气外理成本费降低了30%,年收售氟化钙副好产品约400吨。

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